#本文仅代表作者观点,不代表IPRdaily立场#
“国家知识产权局办公室关于印发2026年立法工作计划的通知。”
近日,国家知识产权局办公室印发关于2026年立法工作计划的通知。其中提到,拟修改完善的部门规章有《专利优先审查管理办法》《集成电路布图设计保护条例实施细则》;拟推进的其他立法项目有配合《中华人民共和国商标法》修改进程,加快推进《中华人民共和国商标法实施条例》修改研究论证,完善地理标志制度,推进研究起草《地理标志条例》,预备修改完善《专利代理管理办法》,预备制定《集成电路布图设计行政裁决办法》等。

国家知识产权局办公室关于印发2026年立法工作计划的通知
局机关各部门,专利局审查业务管理部、复审无效部、初审流程部,商标局:
现将《国家知识产权局2026年立法工作计划》印发给你们,请认真贯彻落实。
国家知识产权局办公室
2026年2月4日
附:《国家知识产权局2026年立法工作计划


(原标题:国家知识产权局办公室关于印发2026年立法工作计划的通知)
点击“阅读原文”,下载附件
来源:国家知识产权局网站
编辑:IPRdaily辛夷 校对:IPRdaily纵横君
注:原文链接:国知局2026年立法工作计划公布!涉及《商标法》《专利代理管理办法》《专利优先审查管理办法》等(点击标题查看原文)

「关于IPRdaily」
IPRdaily是全球领先的知识产权综合信息服务提供商,致力于连接全球知识产权与科技创新人才。汇聚了来自于中国、美国、欧洲、俄罗斯、以色列、澳大利亚、新加坡、日本、韩国等15个国家和地区的高科技公司及成长型科技企业的管理者及科技研发或知识产权负责人,还有来自政府、律师及代理事务所、研发或服务机构的全球近100万用户(国内70余万+海外近30万),2019年全年全网页面浏览量已经突破过亿次传播。
(英文官网:iprdaily.com 中文官网:iprdaily.cn)
本文来自国家知识产权局网站并经IPRdaily.cn中文网编辑。转载此文章须经权利人同意,并附上出处与作者信息。文章不代表IPRdaily.cn立场,如若转载,请注明出处:“http://www.iprdaily.cn”

共发表文章
1789篇