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浅析集成电路布图设计在中国知识产权发展中对芯片设计企业的重要性

深度
Pluto9个月前
浅析集成电路布图设计在中国知识产权发展中对芯片设计企业的重要性

浅析集成电路布图设计在中国知识产权发展中对芯片设计企业的重要性

#本文仅代表作者观点,不代表IPRdaily立场,未经作者许可,禁止转载#


来源:IPRdaily中文网(iprdaily.cn)

作者:马飞

原标题:浅析集成电路布图设计在中国知识产权发展中对芯片设计企业的重要性

 

本文旨在分析集成电路布图设计在中国知识产权发展中对芯片设计企业的重要性。在第四次工业革命的发展促动下,集成电路布图设计保护面临着中国芯片设计企业快速发展的挑战。未来几年,集成电路布图设计在中国仍将发挥重要作用,特别是对中小型芯片设计企业而言,仍是保护知识产权和维持市场竞争的重要手段之一。集成电路布图设计保护的产生和发展可以为保护未来将出现的新技术的知识产权提供宝贵的经验教训。

 

一、背景

 

集成电路【1】是智能制造【2】发展的核心技术之一,其发展水平直接决定着智能制造的成败。集成电路或单片集成电路(也称为芯片或微芯片)【3】现在几乎用于所有电子设备中,并彻底改变了电子领域。由于集成电路体积小、成本低而使计算机、移动电话和其他数字家电作为现代社会结构中不可分割的一部分。

 

关于集成电路设计的法律保护,许多国家和地区使用 “特殊的 (sui generis)”知识产权法,例如,1984年《美国半导体芯片保护法》(the US Semiconductor Chip Protection Act of 1984,SCPA)【4】; 1988年欧盟半导体产品图形条例(the EU Topographies of Semiconductor Products Regulation of 1988)【5】; 1985年日本集成电路(电路布图)法(the Japanese Integrated Circuits (Circuit Layout) Law of 1985)【6】; 1996年中国台湾集成电路保护法【7】; 2000年印度半导体集成电路布图设计法( the Indian Semiconductor Integrated Circuits Layout Design Act of 2000)【8】; 以及,2001年中国集成电路布图设计保护条例【9】。在国际法方面,《与贸易有关的知识产权协议》(TRIPs)【10】 第二部分第6节保护半导体芯片产品,并且根据美国SCPA§902(a)(2)条,作为1995年3月23日第6780号总统公告的基础,将保护范围扩大到当时和将来的所有世贸组织(WTO)【11】成员。

 

二、美国,日本和中国台湾地区

集成电路布图设计的发展与现状

 

在集成电路技术方面,美国、日本和中国台湾在世界上排名处于第一梯队,它们具有许多值得学习的经验。因此,本文挑选这三个国家和地区的半导体芯片保护情况进行研究。

 

(一)美国的半导体芯片保护

 

1. 立法历史

 

“ 1984财年,新的知识产权形式保护的发展——半导体芯片。10月,国会最终批准了1984年《半导体芯片保护法》,......。新法规定了在版权局法定登记后的十年保护期。”(来源:第87次版权登记簿年度报告,1984年【12】

 

根据《美国法典》第17篇第9章【13】,独创性是掩模作品的关键。美国版权局是掩模作品(即:集成电路布图设计)的登记机构。1984年《半导体芯片保护法》的意义还在于,它最早确立了对制造集成电路的掩模件的知识产权保护。

 

图1显示了1985年至2017年美国集成电路布图设计统计数据的柱状图;表1显示了1985年至2017年的详细登记数量。(来源:美国版权局版权登记簿的年度报告(1985-2017年)【14】,更新至2017年)

 

浅析集成电路布图设计在中国知识产权发展中对芯片设计企业的重要性

浅析集成电路布图设计在中国知识产权发展中对芯片设计企业的重要性


如图1所示,集成电路布图设计登记的总体趋势分为三个阶段。第一阶段是1985年至1998年,除1993年外,每年大约有1000件。第二阶段是1999年至2013年,其中登记数量略有波动,即从每年约1000件减少到每年约200件。自2014年以来,每年只有几十件登记。

 

尽管美国芯片技术发展迅速,但尚未在集成电路布图设计登记的数量中得到反映,而是体现在半导体行业的专利申请数量上。主要原因可能包括:

 

- 立法的相对稳定性远落后于技术日新月异的变化。

- 集成电路布图设计具有其特殊性,即,其发展趋向于更复杂的布图以及更小的载体,这使得复制难度增加,并且侵权成本更高。【15】因此,侵犯集成电路布图设计的风险越来越小。因此,许多集成电路布图设计的所有人认为没有必要登记。

- 芯片技术更新非常快。对于那些生命周期短的产品,似乎不需要对其集成电路布图设计进行10年保护。

- 对于那些领先的芯片技术企业,他们更愿意使用专利来保护其高价值技术。与集成电路布图设计相比,专利保护的优势在于保护期限长(20年)、保护范围广、灵活可操纵、创造更多收益等。

 

2. 侵权诉讼

 

美国国会和半导体行业花了八年时间致力于半导体芯片的新立法保护。【16】为了防止芯片盗版,该行业寻求对掩模作品设计的明确法律保护。【17】作为回应,国会最终开发了一种新型的保护措施,因为专利和版权都不足以保护半导体芯片的表面图形。【18】

 

国会在起草这项立法时,预期对于掩模权利会产生大量诉讼,并期望法院制定涵盖掩模作品侵权的新法律体系。但是,自SCPA实施以来的五年中,仅发生了一起记录在案的公司寻求根据SCPA实施保护的案例(Brooktree Corp.诉Advanced Micro Devices Inc.,705F,增补491【19】)【20】。 根据小罗伯特·L·里斯伯格(Robert L. Risberg, Jr.)的意见【21】, SCPA的立法失败了,因为它没有达到预期的效果,并且国会高估了掩模作品侵权的发生。

 

(二)日本的半导体集成电路布图保护

 

日本是继SCPA之后第一个颁布自己版本的国家,即:1985年“半导体集成电路的电路布图法(Act Concerning the Circuit Layout of a Semiconductor Integrated Circuit)”【22】。该法令第3条第2款规定,登记机关是经济、贸易和工业部,更具体地说,发布数据的组织,SOFTIC(软件信息中心)。SOFTIC是唯一被经济、贸易和工业部指定为“登记运营商”的组织(根据第30条))。

 

图2显示了1989年至2013年日本集成电路布图设计统计数据的柱状图;表2显示了1989年至2013年的详细登记数量。(来源:SOFTIC版权登记簿的年度报告【23】,更新至2013年)

 

浅析集成电路布图设计在中国知识产权发展中对芯片设计企业的重要性

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如图2所示,集成电路布图设计登记的数量显着减少,从1989年的873件减少到2013年的5件。与美国的情况一样,日本芯片技术继续高速增长,而在过去五年中,集成电路布图设计的数量几乎可以忽略不计。

 

我认为日本集成电路布图设计登记数量减少的原因与之前对美国情况的分析接近。需要补充的是,专利权的性质是新颖性、创造性和实用性,充分体现出技术水平和价值。因此,随着高新技术的发展,专利申请通常可以衡量技术水平。但是,集成电路布图设计的特征是独创性,该性质决定了该专有权利不能用作技术水平的衡量标准。在这方面,集成电路布图设计更接近于版权,而不是专利。

 

(三)中国台湾的集成电路保护

 

1996年,中国台湾颁布了《集成电路保护法》。图3显示了1996年至2018年中国台湾地区集成电路布图设计统计数据的柱状图;表3显示了1996年至2018年登记的详细数量。(来源:中国台湾知识产权局年度报告【24】,更新至2018年)

 

 浅析集成电路布图设计在中国知识产权发展中对芯片设计企业的重要性

图3

 

表3:

浅析集成电路布图设计在中国知识产权发展中对芯片设计企业的重要性


如图3所示,从1996年到2001年,登记数量相对较高(243、148、125、135、102、206);从2002年到2010年,每年的登记数量保持在几十个(76、53、56、26、63、43、37、30、50);从2011年到2018年,登记数量略有增加(分别为144、159、146、87、113、114、58、95),但平均水平并未达到最初的6年水平。由于采用注册登记制度,因此“授权(Granted)”的数量和“登记(Registration)”的数量大致相同。

 

根据2018年年报,“半导体器件;未另行规定的电固态器件”(国际专利分类(IPC)【25】:H01L)领域的新专利申请为4562件。与专利申请相比,集成电路布图设计的申请数量非常少。因此,专利申请数量的变化比集成电路布图设计的申请数量变化更能准确地反映半导体行业的发展趋势。但是,集成电路布图设计的统计数据仍具有一定的参考价值。而且相比于美国和日本,中国台湾的芯片产业的发展对中国大陆的芯片企业影响更大。

 

三、中国集成电路布图设计的发展与现状

 

(一)知识产权中集成电路布图设计的发展

 

1. 集成电路布图设计的法律定义

 

根据2001年《中国集成电路布图设计保护条例》【26】, 独创性是保护中国集成电路布图设计的重点。复制和商业使用是该条例所规定的集成电路布图设计权利人的两项权利。而且,权利所有人没有版权所有人所享有的出版、发行、改编等权利。当然,基于集成电路或布图设计本身的商业秘密,软件版权等受其他知识产权法律的约束。

 

图4显示了2001年至2018年中国集成电路布图设计统计数据的柱状图;表4显示了2001年至2018年的详细登记数量。(来源:中国知识产权局年度报告【27】,更新至2018年)

 

 浅析集成电路布图设计在中国知识产权发展中对芯片设计企业的重要性

图4

 

表4:

 浅析集成电路布图设计在中国知识产权发展中对芯片设计企业的重要性

 

与美国、日本和中国台湾的情况不同,中国的集成电路布图设计登记数量逐年增加。在中国国家知识产权局(CNIPA)第三季度的例行新闻发布会上,新闻发言人兼CNIPA办公室主任胡文辉表示,2019年上半年,共收到2904件集成电路布图设计登记申请,同比增长45.7%,发证2,487件,同比增长52.0%。【28】集成电路布图设计的登记数量预计在2019年继续增加。

 

由于集成电路布图设计的登记申请数量持续增加,CNIPA于2019年4月发布了《 集成电路布图设计审查与执行指南(试行)》【29】, 以加强集成电路布图设计的专有权保护,完善对集成电路布图设计的审查。同时,对集成电路布图设计的登记申请、审查和商业使用也被标准化。【30】

 

(二)中国芯片设计企业

 

自2010年以来,中国芯片设计产业进入快速发展时期,2010年至2014年年销售额增长30%左右,2015年和2016年中国芯片设计产业增速虽略有放缓,但仍保持了每年以20%以上的速度增长。这一增长率远高于全球半导体行业市场规模的总体增长率。同时,中国芯片设计企业数量也开始疯狂增长,2016年芯片设计企业数量增加626家,达到1362家,2017年回归理性,企业数量为1380家。【31】

 

图5显示了2001年至2017年中国芯片设计企业的数量。【32】

 

 浅析集成电路布图设计在中国知识产权发展中对芯片设计企业的重要性

(来源:未来产业研究所)

 

与美国、中国台湾等领先的集成电路设计领域相比,中国的芯片设计企业数量众多,但实力不强。在1380家芯片设计企业中,市值超过5000万元的企业有732家,占销售额的97%。剩下的600多家芯片设计企业可忽略不计,预计在未来几年内将被淘汰。【33】2017年,在1380家芯片设计企业中,1000名员工以上的仅有16家,员工不足100名的中小企业所占比例达到88.62%。(数据来源:中国半导体工业协会和广证恒生)

 

一方面,从事集成电路设计的国内企业数量众多。在技术水平和研发投入的限制下,大多数芯片设计企业倾向于针对中低端市场开发和设计产品,同质化更加严重,相关市场竞争激烈,行业竞争日益激烈。激烈。【34】 另一方面,许多国外芯片设计企业纷纷涌入中国市场,其中包括国外知名芯片设计行业领先公司的雄厚资本和技术实力,这进一步加剧了中国市场的竞争。由于技术、资金、管理等方面的劣势,中国芯片设计企业仍难以与国外巨头竞争。【35】

 

四、分析与启示

 

(一)集成电路布图设计保护的优势

 

在美国、日本和中国台湾等芯片行业发达的地区,与专利申请相比,当前的集成电路布图设计登记的数量可以忽略。在中国,集成电路布图设计登记的数量仍在上升。对于集成电路布图设计的保护,仍然具有其功能和意义。主要优点是:

 

- 为设计者/申请人提供知识产权保护。设计者/申请人通过智慧劳动创造的产品值得保护。此外,“集成电路布图设计”的法律法规在几乎每个司法管辖区的立法目的都是确保合理利用半导体集成电路的布图设计,从而促进半导体集成电路的发展,为国民经济的健康发展做出贡献。无论成果更新的速度有多快,有多少经济价值,是否存在侵权,都不能成为保护这一权利的衡量指标。无论是否经常使用,集成电路布图设计保护在科技社会和文明社会中对于知识产权保护都具有不可或缺的重要作用。

 

- 对于那些新兴的芯片制造商来说,集成电路布图设计保护仍然是知识产权保护的主要战略之一。如果技术不成熟或不符合专利要求,则可以选择集成电路布图设计保护作为专利权保护的替代方案。

 

- 对于企业的知识产权运营战略,集成电路布图设计保护可以为专利权保护护航。对于高科技产品或方法,企业倾向于使用专利保护,并且方法保护在芯片领域尤其普遍,尤其是在计算机、处理器等领域。方法专利由于其抽象性而经常受到竞争对手的挑战;这意味着存在很大的无效风险。从这个角度来看,集成电路布图设计保护将是一个很好的备份。在新产品或方法既具有专利权保护、又具有集成电路布图设计保护的情况下,即使专利无效,至少也将保留集成电路布图设计。

 

- 对于商业秘密,如果一项新技术的所有者不想以专利的形式完全公开其技术,则集成电路布图设计是一种替代的保护形式。因为集成电路布图设计仅保护图形设计,所以专有技术可以作为商业秘密保存。以美国为例,专利保护在许多联邦法院中都难度很大,因此一些半导体公司不愿通过专利公开来披露其专有信息。半导体行业需要一种新型的保护形式,以减少专有信息的泄露。在这方面,SCPA为此类公司提供了获得芯片保护而不公开的机会。【36】

 

- 有许多类型的芯片分布在各个领域,例如家用电器、通信、计算机等。在智能制造时代,新产品不断涌现。对于构造简单、更新快的芯片产品的知识产权保护,集成电路布图设计是首选。简单的芯片易于复制,因此集成电路布图设计保护非常必要;集成电路布图设计可以保护快速更新的产品,与专利保护相比,它可以节省经济成本,花费的时间更少。

 

- 集成电路布图设计保护的示例为新技术(如人工智能(AI)等)的知识产权保护提供参考和借鉴。

 

(二)集成电路布图设计保护的局限性

 

集成电路布图设计的特殊保护说明了其使用的局限性。这种局限性主要体现在以下几个方面:

 

- 集成电路布图设计权利的操作受到限制。与专利保护相比,集成电路布图设计保护的范围和可操作性非常有限。专利运作是使用专利制度并基于企业创新的一种综合手段。它最直接的体现是制定企业专利战略。企业专利战略规划是企业专利运作的纲要。因此,通常基于专利策略来理解专利运作的手段。【37】

 

对于集成电路布图设计,其保护系统不完善,不灵活或无法像专利系统那样运行。集成电路布图设计的范围是固定且狭窄的。但是,专利的范围实际中存在不确定性,这导致后续工作具有更大的可扩展性。至于操作集成电路布图设计的保护手段,就是要像专利一样在市场上获得竞争优势,这似乎更加不可能,因为专利的公开透明性可以受到市场上消费者和竞争对手的关注,而集成电路布图设计的不透明性几乎没有受市场关注。实际上,在同时申请专利和集成电路布图设计保护的情况下,盗版公司会完整地复制芯片,他们也会同时侵害芯片的专利权,而专利权人更愿意采取防御措施来打击专利侵权。因此,许多大型芯片制造商更倾向于申请专利权,这是可操作的并且可以使企业受益更多。

 

- 如上所述,集成电路布图设计的保护范围狭窄,并且集成电路布图设计以单一形式存在。根据集成电路布图设计的定义,其保护主题是一系列固定的图案,其特征是独创性。它具有特殊性和独特性。但是,专利可以在权利要求的保护范围内具有多种实现方式。因此,与许多现有形式的专利相比,集成电路布图设计的实际应用机会更少。

 

- 许可协议不适用于集成电路布图设计。集成电路布图设计的强制许可是不合适的,因为其保护期比较短,并且可以进行逆向工程。【38】而且,强制许可必须包括所有详细的信息,以防止滥用许可授权。半导体制造商之间的许可协议通常是结合了专利技术和商业秘密的许可,而不仅仅是涉及集成电路布图设计。

 

- 芯片产业的发展将从新技术的发展中受益。同时,集成电路布图设计的知识产权将受到这些新技术的挑战,例如AI技术的发展。【39】人工智能可以模拟人类意识和思维的信息过程。人工智能不是人类的智能,而是可以像人类一样思考,并且可能超越人类的智能。【40】人工智能技术的广泛使用还将改变专利、文学、艺术作品以及集成电路布图设计中固有的知识产权概念。在技术含量、易于学习和复制方面,艺术作品应该是最早受AI技术影响的。在积累足够的集成电路布图设计数据和集成电路布图设计基本原理的条件下,人工智能机器人将学习创建自己的集成电路布图设计以匹配特定功能。这似乎是在不久的将来,在创造可授予专利的发明之前发生的。因此,立法者应及时了解与AI技术相关的权利和义务。如有必要,请及时更改集成电路布图设计保护的相关法律法规。

 

- 还应该指出,法律的发展落后于技术的发展,这是法律本身的重要属性。对于更换速度非常快的芯片技术,法律与技术之间的不一致更加明显。根据SCPA的经验和教训,新法律的出现和法律的修订必须由相关的技术专家参与。由于值得参考的案例数量有限,因此很难修改保护集成电路布图设计的法规和准则。由此可见,集成电路布图设计法律法规的完善要求立法者和专家投入更多的时间和精力进行研究。

 

(三)侵权诉讼分析

 

逆向工程在集成电路产业中,在集成电路设计的过程中是必不可少的技术手段。【41】逆向工程可以为芯片行业的设计人员提供技术资源,以便集成电路布图设计人员可以更快更好地创建相似的功能或更好的集成电路性能,因此逆向工程还可以促进整个行业的进步。但是,从逆向工程的过程中可以看出,逆向工程包含复制行为。逆向工程与集成电路布图设计的复制侵权过程非常相似,而这两个容易造成混淆。从某种意义上说,逆向工程有益于集成电路产业的发展,但也以逆向工程的名义保护了那些进行了简单的复制和盗窃的行为人。因此,在实践中,引起争议很容易。【42】

 

从中国在集成电路布图设计侵权纠纷中的司法实践来看,知识产权法院和CNIPA均具有管辖权。《集成电路布图设计保护条例》明确授权CNIPA接受案件类型和相关处罚。因此,适用于CNIPA的案件具有以下特征:

 

- 侵权造成的损害不重大;

- 需要迅速结案;

- 简单的案件,例如法律关系简单、侵权行为明显等;

- 由于专家小组通常由专业人员和专家组成,因此技术上的理解更加准确,可以做出公正的决定;

- CNIPA的职权和处罚应按规定。

 

相反,适用于国际法院的案件的特点是:

 

- 侵权行为造成的损害是巨大的;

- 例如,与侵犯若干知识产权有关的复杂案件,侵权人也可能提起反诉等。

- 除知识产权外,其他相关法律申请;

- 可以参考司法经验和许多案件;

- 权限和处罚的范围比CNIPA的范围要广。

 

集成电路布图设计专有权的撤销程序与专利无效程序的撤销程序相似,并且任何人都可以向CNIPA请求。然而,由于芯片设计技术的复杂性,难以进行证据比较,这通常需要专家鉴定、取证和许多其他程序,并且整个撤销程序的时间很长。

 

近年来,作为中国高端制造业的战略性产业,集成电路的产业规模和研发水平得到了显着提高,市场竞争也越来越激烈,引发了许多关于集成电路的争议。 【43】因此,如何选择正确的纠纷解决方案对中国的芯片设计企业具有重要的意义。

 


被引作品清单

 

专著和文章

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立法资料

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1996年中国台湾集成电路保护法

2000年印度半导体集成电路布图设计法

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【8】SICLD-Act-English.pdf, http://sicldr.gov.in/Resources/SICLD-Act-English.pdf (last visited Aug 9, 2019).

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【10】WTO | intellectual property (TRIPS) - agreement text - standards, https://www.wto.org/english/docs_e/legal_e/27-trips_04c_e.htm (last visited Aug 9, 2019).

【11】Integrated circuit - Wikipedia, supra note 1.

【12】Annual Reports | US Copyright Office, https://www.copyright.gov/history/annual_reports.html (last visited Jun 4, 2019).

【13】17 US Code Chapter 9 - PROTECTION OF SEMICONDUCTOR CHIP PRODUCTS, supra note 4.

【14】Annual Reports | US Copyright Office, supra note 12.

【15】Robert L. Risberg, Jr, Five Years without Infringement Litigation under the Semiconductor Chip Protection Act: Unmasking the Spectre of Chip Piracy in an Era of Diverse and Incompatible Process Technologies, Volume 1990 Wis. LAW Rev.

【16】Joseph R Biden et al., COMMITTEE ON THE JUDICIARY 209.

【17】1987 Senate Hearing, supra note 5, at 60.

【18】Robert L. Risberg, Jr, supra note 15.

【19】Brooktree Corp. v. Advanced Micro Devices Inc., 705F. Supp. 491 (S.D. Cal. 1988).

【20】Id.

【21】Robert L. Risberg, Jr, supra note 15.

【22】日本法令外国語訳データベースシステム - [法令本文表示] - 半導体集積回路の回路配置に関する法律, supra note 6.

【23】半導体集積回路, http://www.softic.or.jp/ic/ic-layout/index.html (last visited Jun 6, 2019).

【24】系統管理者, 歷年統計 (00:00), https://www.tipo.gov.tw/lp.asp?CtNode=6721&CtUnit=3231&BaseDSD=7&mp=1&nowPage=1&pagesize=10 (last visited Jun 2, 2019).

【25】International Patent Classification (IPC), https://www.wipo.int/classifications/ipc/en/index.html (last visited Aug 9, 2019).

【26】集成电路布图设计保护条例 -- 国家知识产权局, supra note 9.

【27】国家知识产权局--统计信息, http://www.sipo.gov.cn/tjxx/ (last visited Jun 16, 2019).

【28】外媒:中国芯曙光初现,知识产权表现让专家看到希望[CSIA], http://www.csia.net.cn/Article/ShowInfo.asp?InfoID=85830 (last visited Aug 8, 2019).

【29】国家知识产权局关于印发《集成电路布图设计审查与执法指南(试行)》的通知 -- 国家知识产权局, http://www.sipo.gov.cn/gztz/1137151.htm (last visited Aug 8, 2019).

【30】外媒:中国芯曙光初现,知识产权表现让专家看到希望[CSIA], supra note 28.

【31】IC设计行业“注水”严重,后期竞争将加剧_网易订阅(translated into: "Water flooding" is serious in IC design industry, and later competition will intensify -- NetEase Subscription), http://dy.163.com/v2/article/detail/E1HSRC34051480KF.html (last visited Aug 8, 2019).

【32】Id.

【33】Id.

【34】Id.

【35】Id.

【36】Robert L. Risberg, Jr, supra note 15.

【37】专利运营_百度百科, https://baike.baidu.com/item/%E4%B8%93%E5%88%A9%E8%BF%90%E8%90%A5/13839203#2 (last visited Jun 26, 2019).

【38】Reverse engineering, WIKIPEDIA (2019), https://en.wikipedia.org/w/index.php?title=Reverse_engineering&oldid=901602482 (last visited Jun 27, 2019).

【39】Artificial intelligence, Wikipedia (2019), https://en.wikipedia.org/w/index.php?title=Artificial_intelligence&oldid=910051113 (last visited Aug 10, 2019).

【40】Id.

【41】Id.

【42】Id.

【43】国家知识产权局顺利办结首起集成电路布图设计专有权侵权纠纷案件 -- 国家知识产权局, http://www.sipo.gov.cn/zscqgz/1131895.htm (last visited Aug 6, 2019).

 

来源:IPRdaily中文网(iprdaily.cn)

作者:马飞

编辑:IPRdaily王颖          校对:IPRdaily纵横君


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