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「集成电路布图设计专有权侵权案件」常见问题剖析!

专利
豆豆7个月前
「集成电路布图设计专有权侵权案件」常见问题剖析!

「集成电路布图设计专有权侵权案件」常见问题剖析!

#文章仅代表作者观点,未经作者许可,禁止转载,文章不代表IPRdaily立场#


来源:IPRdaily中文网(IPRdaily.cn)

作者:陈军 安徽天禾律师事务所律师

原标题:集成电路布图设计专有权侵权案件常见问题剖析


集成电路,是指半导体集成电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。集成电路布图设计(下称布图设计),是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。立法层面,目前我国有关布图设计仅有《集成电路布图设计保护条例》(下称《条例》)、《集成电路布图设计保护条例实施细则》及《集成电路布图设计行政执法办法》三部法律法规。


自2001年10月1日《条例》施行后,笔者使用“案由:侵害集成电路布图设计专有权纠纷”为关键词,在中国裁判文书网上进行检索发现,截至2018年4月6日全部检索结果:判决与裁定共20篇。这其中,判决书11份,裁定书9份。20篇法律文书中,有部分裁决也为一起纠纷案件形成的多份法律文书,为此,能够为公众进行有效分析讨论的法律文书过少。


但随着《国家集成电路产业发展推进纲要》的颁布实施,及布图设计登记授权量的逐年增加[1],如何为布图设计提供充分有效的法律保护,已为集成电路设计、制造等行业及司法实务所共同关注的问题。基于现有法律规定,结合前述已检索到的全部法律文书,笔者现就当前布图设计专有权侵权案件中常见争议焦点进行梳理,并将司法审判相应观点进行归纳总结,借此为布图设计权利人提供维权参考。


一、法律依据


我国《条例》就布图设计专有权的产生、具体内容及损害赔偿作出了具体规定,其中:


第四条 受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。


第七条 布图设计权利人享有下列专有权:


(一)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制;


(二)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。


第八条 布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。


未经登记的布图设计不受本条例保护。


第十二条 布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受本条例保护。


第十六条 申请布图设计登记,应当提交:(一)布图设计登记申请表;(二)布图设计的复制件或者图样;(三)布图设计已投入商业利用的,提交含有该布图设计的集成电路样品;(四)国务院知识产权行政部门规定的其他材料。


第三十条 除本条例另有规定的外,未经布图设计权利人许可,有下列行为之一的,行为人必须立即停止侵权行为,并承担赔偿责任:


(一)复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的;


(二)为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的。


侵犯布图设计专有权的赔偿数额,为侵权人所获得的利益或者被侵权人所受到的损失,包括被侵权人为制止侵权行为所支付的合理开支。


二、布图设计独创性举证责任


布图设计专有权人若要进行维权,首先需要解决的是布图设计具有独创性,当前司法实务观点认为,布图设计一经登记授权,即推定具有独创性,被诉侵权人若认为其不具有独创性,应提交反证予以证实,如:


(1)深圳市华彩威科技有限公司与深圳市明微电子股份有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案【广东省高级人民法院(2017)粤民终1145号】


“《条例》第四条规定:受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路生产者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体应当符合前款规定的条件。一审法院认为,分析独创性应当是先由明微公司明确主张权利内容,再由华彩威公司提出不属于独创性抗辩证据,在双方充分对抗的情况下,由法庭进行综合考虑,最终作出独创性判定。


本案,明微公司主张其BS.13500569.8名称为“DMX512AH(88B)”布图设计八个模块和整体布局具有独创性,明微公司指出现有技术的显示数据是串联传输,而明微公司芯片是国内第一款并联驱动的芯片,因此符合独创性的法律特征。华彩威公司不确认明微公司的主张,但是华彩威公司又拒不提交其抗辩的证据材料,华彩威公司也拒不交纳鉴定费致使鉴定终结。


《最高人民法院关于民事诉讼证据的若干规定》第二十五条规定了对需要鉴定的事项负有举证责任的当事人,在人民法院指定的期限内无正当理由不提出鉴定申请或者不预交鉴定费用或者拒不提供相关材料,致使对案件争议的事实无法通过鉴定结论予以认定的,应当对该事实承担举证不能的法律后果。据此,一审法院依据民事诉讼的证据规则,确定明微公司主张的独创性成立。”


(2)南京通华芯微电子有限公司与西安民展通讯科技有限公司等侵害集成电路布图设计专有权纠纷案【江苏省高级人民法院(2015)苏知民终字第00114号】


“虽然鉴定报告未指出THX202H布图设计的独创性内容,但根据现有证据可以推定通华芯公司主张的上述内容具有独创性。主要理由是:《条例》第四条规定,受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。由此可见,集成电路布图设计专有权所保护的是布图设计中具有独创性的部分。独创性的证明标准则是该布图设计不是公认的常规设计,属于消极事实,而消极事实本身是无法直接证明的,但可以间接证明,即积极事实的主张者若想否定消极事实主张者的主张,只需简单举出反证即可。如果被诉侵权人不能证明其主张,就要承担对其不利的法律后果。


本案中,布图设计专有权人通华芯公司已对其主张的独创性部分的内容进行了详细的陈述,已经完成了初步的举证责任,如果启达公司、民展公司认为通华芯公司主张的独创性内容是公认的常规设计,则其只要能提供在涉案布图设计登记日之前完成的一份相同或者实质相似的常规布图设计即可。民展通讯公司系专业从事集成电路设计及系统集成应用开发的国家级高新技术企业,自身拥有集成电路布图设计登记,也在集成电路领域拥有专利权,拥有自己的研发团队,其对集成电路行业技术发展具有常规了解,具有提交相关常规设计证据的能力,但其仅简单否定,并未提交任何相反证据证明其抗辩主张,对此,应认定通华芯公司主张其布图设计具有独创性部分的内容成立。”


(3)泉芯电子技术有限公司与南京微盟电子有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案【广东省高级人民法院(2014)粤高法民三终字第1231号】


“原审法院认为,集成电路布图设计实质上是一种图形设计,是确定用以制造集成电路的电子元件在一个传导材料中的几个图形排列和连接的布局设计,微盟公司主张涉案ME6206芯片的布图设计是采用常规设计并通过不同的组合方式,达到一定的优化功能即“ME6206是具有过流和短路保护的CMOS降压型电压稳压器”,而泉芯公司亦未对涉案ME6206芯片的布图设计独创性提出抗辩,据此,原审法院认定涉案ME6206芯片的布图设计具有独创性。”


三、专有权人的布图设计与被诉芯片应具有同一性


题述中的同一性,即为被诉芯片是否复制使用了布图设计全部或部分独创性部分[2],为审理侵害布图设计专有权纠纷案重中之重的问题。对此,司法实务已就下列问题给出明确观点:


1、布图设计专有权人应首先向法院明确其布图设计中具有独创性的内容,同时向法院提交自行比对的与被诉芯片具有同一性的结果。


在布图设计专有权人完成题述举证责任的情况下,若被诉侵权人拒不提交被诉芯片的图样,且拒不缴纳司法鉴定费用,法院可以直接作出两者具有同一性的不利推定。如深圳市华彩威科技有限公司与深圳市明微电子股份有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案【广东省高级人民法院(2017)粤民终1145号】中:


“按照明微公司的上述主张的证据及理由,华彩威公司WS2821芯片复制了明微公司主张的八个模块布图设计。华彩威公司对明微公司提交的对比结论有异议,但没有具体提出明微公司对比错误的依据及理由,华彩威公司也没有提交其认为被控芯片与明微公司布图设计的对比文件。出于慎重考虑,一审法院决定对技术对比等问题进行司法鉴定,但是,华彩威公司在鉴定过程中拒不履行预交鉴定费等义务,致使司法鉴定程序终结,依据《最高人民法院关于民事诉讼证据的若干规定》第二十五条规定,华彩威公司应当承担不利后果。据此,一审法院认定华彩威公司WS2821芯片复制了明微公司登记保护布图设计的具有独创性八个模块布图设计。”


2、被诉芯片复制全部布图设计中的任一独创性设计,即落入专有权保护范围。


首先,对此问题,在《条例》第七条第一项已给出明确规定,复制布图设计全部或者其中任何具有独创性的部分,均落入布图设计专有权范围。


其次,在钜泉光电科技股份有限公司诉上海雅创电子零件有限公司等侵害集成电路布图设计专有权纠纷案【上海市第一中级人民法院(2010)沪一中民五(知)初字第51号】中:


“在集成电路布图设计中,任何具有独创性的布图设计的相同或者实质性相似与整个芯片的布图设计相同或者实质性相似是两个概念,不能因原、被告芯片整体布图设计的不相同或者不实质性相似而否定涉案两个具体布图设计相同或者实质性相似的事实。因此,被告锐能微公司对涉案RN8209、RN8209G芯片的布图设计与原告ATT7021AU芯片布图设计存在上述两个相同部分布图设计的鉴定结论所持的异议不能成立,本院不予采纳。”


3、尽可能选择布图设计图样作为检材与被诉芯片进行比对。


《条例》第十六条的规定,在确定权利人的布图设计权利范围时,优先选择登记授权时所提交的复制件或者图样而定。但布图设计登记授权实务中,很多布图设计图样相较于权利人产品实物并不完整且线条不够清晰,无法与被诉侵权产品进行有效比对时,能否使用布图设计样品与被诉侵权产品进行比对,司法实务中对此尚有争议:


在深圳市中级人民法院审理的两起案号分别为“[2006] 深中法民三初字第 255 号”及“[2009] 深中法民三初字第 184 号”的集成电路布图设计专有权纠纷案件中,由于专有权人登记时提交,后作为庭审证据的布图设计图样相较于原告产品实物并不完整且线条不够清晰,无法与被告产品进行有效比对,因此法院将登记时提交的芯片样品作为了专有权保护范围的证据与被诉侵权产品进行比对。


而在昂宝电子(上海)有限公司与被南京智浦芯联电子科技有限公司等侵害集成电路布图设计专有权纠纷案【江苏省高级人民法院(2013)苏知民终字第0180号】中,法院认为:


“以复制件或图样为准确定专有权的保护内容,符合《条例》规定的精神。《条例》第十六条规定,申请布图设计登记,应当提交:(一)布图设计登记申请表;(二)布图设计的复制件或者图样;(三)布图设计已投入商业利用的,提交含有该布图设计的集成电路样品;(四)国务院知识产权行政部门规定的其他材料。《细则》第十七条第(一)项规定,布图设计登记申请未提交布图设计登记申请表或者布图设计的复制件或者图样的,已投入商业利用而未提交集成电路样品的,或者提交的上述各项不一致的,国家知识产权局不予受理。


由上述规定可知,对于申请时已投入商业利用的布图设计,申请人除了需要提交样品外,仍然需要提交布图设计的复制件或者图样,如果仅凭样品即可确定布图设计专有权的保护内容,则无须要求申请人再提交复制件或图样。因此,《条例》第十六条及《细则》第十七条规定可以解释为提交复制件或者图样是获得布图设计专有权的必要条件,昂宝公司上诉认为,登记时提交样品,就应当以样品来确定专有权的保护内容与《条例》规定的基本精神不符,本院不予支持。”


鉴于上述司法审判实务现状,建议布图设计专有权人,在布图设计申请登记时务必提交完整清晰的布图设计图样,以避免后期维权风险。


4、同一性比对时,先行确定被诉芯片与布图设计相同部分,再就该部分是否具有独创性进行审查。


在深圳市华彩威科技有限公司与深圳市明微电子股份有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案【广东省高级人民法院(2017)粤民终1145号】中:


“在侵犯集成电路布图设计案件中,判断被诉侵权产品是否构成侵权,可以先确定被诉侵权集成电路包含的布图设计是否与通华芯公司主张的布图设计相同或部分相同;再对相同部分是否具有独创性进行认定,如相同部分的具有独创性,则构成侵权。而对于是否相同的认定,在仅有被诉侵权芯片且当事人未提供被诉侵权布图设计的情况下,可以通过对被诉芯片反向提取其版图,即将通过反向工程提取被诉侵权芯片的器件层视图、金属层视图,与权利人的布图设计中对应的器件层及金属层进行是否相同或实质相同比对。


本案中,工信电司鉴中心[2013]知鉴字第55号《司法鉴定报告书》方法是,鉴定机构将从国家知识产权局调取的通华芯公司THX202H布图设计的电子版,与其委托北京芯愿景软件技术有限公司从被诉CR6202T中提取的布图设计进行比对。在比对时,先对整体布局比对;再按功能进行模块划分,比对各功能模块布图是否相同。涉案《司法鉴定报告书》第33页明确载明,芯愿景公司提取了CR6202T的器件层视图、M1视图和M2视图,故民展公司主张涉案鉴定报告未提取被诉侵权芯片的器件层视图的抗辩,缺乏事实依据。”


注释:

[1]根据国家知识产权局公开的集成电路布图设计专有权公告数据统计,从2001年10月1日至2016年12月31日,在我国登记公告的布图设计总计为12778件(包括国外的企业和个人在我国登记的所有布图设计专有权)。而2016年公告的全国集成电路布图设计专有权总量为1918件。

[2]同一性的鉴定需选择具有资质的司法鉴定机构,对此,笔者整理了近年来接受司法委托,并其所出具的鉴定结论为司法所认可的部分鉴定机构,如北京芯愿景软件技术有限公司、工业和信息化部软件与集成电路促进中心、北京紫图知识产权司法鉴定中心等。



来源:IPRdaily中文网(IPRdaily.cn)

作者:陈军 安徽天禾律师事务所律师

编辑:IPRdaily赵珍          校对:IPRdaily纵横君


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